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        真空燒結爐

        真空燒結爐

        簡要描述:真空燒結爐是用石墨或金屬鎢、鉬作發熱元件的真空電阻爐,溫度范圍30-2300℃,供金屬化合物、陶瓷、無機化合物等在真空或保護氣氛中燒結制品,也可用于金屬材料的熱處理。主要應用于電容、鉭材等金屬及由難熔金屬組成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高溫燒結、也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫熱處理或貴金屬材料的除氣處理。

        產品時間:2020-09-03

        瀏覽量:2332次

        廠家性質:生產廠家

        詳細說明:
        品牌HAOYUE/皓越升溫速度(達到最高溫)30℃min
        控溫精度±1℃最高溫度2000℃
        價格區間30萬-50萬儀器種類真空爐
        產地類別國產應用領域化工,地礦,能源,電子,冶金

        一、產品應用

          真空燒結爐是用石墨或金屬鎢、鉬作發熱元件的真空電阻爐,溫度范圍30-2300℃,供金屬化合物、陶瓷、無機化合物等在真空或保護氣氛中燒結制品,也可用于金屬材料的熱處理。主要應用于電容、鉭材等金屬及由難熔金屬組成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高溫燒結、也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫熱處理或貴金屬材料的除氣處理。
        二、產品特點 
          設備結構合理,設計及制造符合相應的國家及行業標準和規范,使用、操作、維修方便簡捷,配套產品和元器件具有先進水平,可穩定、安全、可靠地滿足生產需求。

        1、爐體密封性能良好,可通多種不同氣體(氮氣、氬氣、氫氣等);

        2、采用進口石墨碳氈,比傳統電爐節能30%;

        3、高溫金屬(鉬、鎢)/石墨材料加熱系統選擇,方便不同溫度或材料工藝需求;

        4、按鈕機械壽命不低于20萬次(1200次/小時);

        5、升溫速度快 高達20℃/min;

        6、氣管采用快接插頭,拆卸方便;

        7、標配擴散泵機組,真空度 8×10-3Pa ;

        8、標配智能控制系統,采用高分辨率觸摸屏和溫度控制模塊,對工藝溫度曲線進行全程監控、操作,記錄、存儲;

        9、可配有液壓叉車裝取料系統;

        三、技術參數 

           金屬加熱

        型號

        VVSw-6/6-2000(V1)

        VVSw-10/12-2000 (V2)

        VVSw-20/25-2000(V3)

        設計溫度(℃)

        2000

        2000

        2000

        控溫精度(℃)

        ±1

        ±1

        ±1

        溫度均勻(℃)

        ±5

        ±5

        ±5

        ①真空度范圍(選配)

        低真空/高真空

        低真空/高真空

        低真空/高真空

        ②充氣體種類(選配)

        氮氣/氬氣/氫氣

        氮氣/氬氣/氫氣

        氮氣/氬氣/氫氣

        ③冷卻系統(選配)

        HCA-6

        HCA-8

        HCA-10

        爐膛尺寸(寬X高X長)(mm)

        Φ60×60

        Φ100×120

        Φ200×250

        額定電壓(V)

        380/二相

        380/二相

        380/三相

        額定功率(KVA)

        20

        30

        60

        加熱方式

        鎢加熱

        鎢加熱

        鎢加熱

        裝卸料方式

        立式下裝料

        立式下裝料

        立式下裝料

        備注:①低真空為10-1Pa;高真空為10-4Pa;②充氣種類須氣體;③冷水機型號及制冷量

         

        石墨加熱

         

        型號

        VVSgr-6/6-2000(V1)

        VVSgr-10/12-2000 (V2)

        VVSgr-20/25-2000(V3)

        設計溫度(℃)

        2000

        2000

        2000

        控溫精度(℃)

        ±1

        ±1

        ±1

        溫度均勻(℃)

        ±5

        ±5

        ±5

        ①真空度范圍(選配)

        低真空/高真空

        低真空/高真空

        低真空/高真空

        ②充氣體種類(選配)

        氮氣/氬氣/氫氣

        氮氣/氬氣/氫氣

        氮氣/氬氣/氫氣

         

         

         



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