化學氣相沉積爐（CVD系統）

  高真空CVD系統是一款專業在沉底材料上生長高質量石墨烯、碳納米管、碳化硅的設備，廣泛應用于在半導體、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領域。 

CVD系統

二、產品特點

  高真空CVD系統主要由高溫腔體、石英管、石英支架、氣路系統、分子泵機組、自動化控制系統、冷卻系統等組成。

1、沉底材料可采用銅箔、石墨等;

2、生長腔體采用進口高純石英管，配石英支架、為石墨烯等材料的生長提供潔凈環境;

3、爐膛采用進口高純氧化鋁多晶體纖維，不易掉粉、壽命長且保溫性能好。加熱絲采用優質摻鉬鐵鉻鋁合金加熱絲，溫場均勻，能耗低；

4、密封法蘭均采用不銹鋼材質，配水冷套，可連續長時間工作;

5、氣路系統采用兩路質量流量計(可拓展多路),配預混系統;

6、氣體種類： He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6；

8、系統采用集成化設計，控制系統、混氣罐、質量流量計等均內置在箱體內部，占地面積小。整體安裝四個可移動輪子，方便整體移動。