等離子增強化學氣相沉積爐（PECVD系統）

一、PECVD系統產品應用

   PECVD工藝中由于等離子體中高速運行的電子撞擊到中性的反應氣體分子，就會使中性反應氣體分子變成碎片或處于激活的狀態容易發生反應；借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體，在局部形成離子體，而等離子體化學活性很強，很容易反應，在基片上沉積出所期望的薄膜；具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等優點；

PECVD系統

二、產品特點

   1、整機采用SUS304不銹鋼材質，流線型外觀，真空吸附成型的優質高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛，保溫性能好。

   2、爐子底部裝有一對滑軌，移動平穩，可以手動從一端滑向另一端，實現快速的加熱和冷卻。爐蓋可開啟，可以實時觀察加熱的物料。

   3、采用高純石英管，高溫下化學穩定性強，耐腐蝕，熱膨脹系數極小。

   4、采用SUS304不銹鋼快速法蘭，通過用高溫“O”型圈緊密密封可獲得高真空，一個卡箍就能完成法蘭的連接，放、取物料方便快捷。

   5、加熱元件采用康奈爾發熱絲，表面負荷高、經久耐用。設計溫度1200℃，升溫速率10℃/min。

   6、可選配多路質量流量計，數字顯示、氣體流量自動控制；內置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥，可通過控制面板上的旋鈕來調節氣體流量。

   7、等離子射頻電源：大射頻功率達500W，輸出頻率13.56MHz±0.005%，輸入電源 208-240VAC, 單相50/60Hz。

三、技術參數