PECVD系統技術是在低氣壓下，利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上（即樣品放置的托盤）產生輝光放電，利用輝光放電（或另加發熱體）使樣品升溫到預定的溫度，然后通入適量的工藝氣體，這些氣體經一系列化學反應和等離子體反應，最終在樣品表面形成固態薄...

連續式回轉爐適用于無機鹽粉體材料（如磷酸鐵鋰、碳酸錳、碳酸鋇）、金屬粉體等在氧化性（如空氣）或還原性氣氛（如氮氫混合氣）下的焙燒反應，也適用于化工行業催化劑載體氧化性處理以及石墨烯、納米材料、稀土等高新材料?；剞D窯的主要特點：在熱處理即焙燒...

相信大多數人都知道，在工業上使用的氣氛管式爐中，許多可控氣體是可燃的，在特殊的條件下可能發生爆炸。這種爆炸可能損壞設備和威脅操作人員的人身安全。因此，在設備運行中，應對潛在的危險給予高度重視。在已發生的事件中，特別引人注意的是，必須按照操作...

PECVD系統主要由真空和壓力控制系統、淀積系統、氣體及流量控制、系統安全保護系統、計算機控制等部分組成。該技術是在低氣壓下，利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上（即樣品放置的托盤）產生輝光放電，利用輝光放電（或另加發熱體）使樣品升溫到預定的...